中国自制8奈米DUV光刻机？说法被驳斥近日在中国社媒上，中国已能自制8奈米DUV光刻机以及掌握7纳米光刻技术的说法甚嚣尘上，但这些说法遭到业内人士驳斥。据指这场虚假荣耀的主要起因，是混淆了国产光刻机的分辨率和套刻精度的概念，以及对上海微电子申请EUV技术专利的捕风捉影，被指为“阿Q式自欺欺人”。2024年09月17日 社会
