光罩检验 电子显微镜出列

2012年11月21日科技
【新唐人2012年11月22日讯】(中央社记者钟荣峰台北22日电)对半导体光罩基材检验,测试设备大厂爱德万测试(Advantest)开发扫描式电子显微镜系统。

爱德万测试表示,光罩制程不容许出现任何重大缺陷,因为这不仅会降低良率,也将连带影响制程周期时间。

针对光罩缺陷检验,爱德万测试开发扫描式电子显微镜系统,结合全自动影像撷取技术,用多视角量测扫描式电子显微镜检测光罩缺陷,提供光束倾斜功能,以倾斜角度进行扫描。

爱德万测试表示,检验光罩缺陷,需具备逐一分类缺陷的功能,依缺陷类别判断适当修复方式,才能在既定制程周期时间内,达成良率目标。

在光罩缺陷检验产品特性上,爱德万测试表示,扫描式电子显微镜系统应具备高空间解析度,提供倾斜扫描;高稳定性、全自动影像撷取;以及与光罩检验系统相容等功能。

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